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ICS 77.150.99 H 68 中华人民共和国国家标准 GB/T 34649—2017 磁控溅射用钉靶 Magnetron sputtering ruthenium target 2018-04-01实施 2017-09-29发布 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布 中国国家标准化管理委员会 GB/T 34649—2017 前言 本标准按照GB/T1.12009给出的规则起草。 本标准由中国有色金属工业协会提出 本标准由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。 本标准负责起草单位:有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院。 本标准起草人:罗俊锋、丁照崇、李勇军、向磊、万小勇、刘书芹、熊晓东、王庄、贺昕、滕海涛、高岩。 GB/T34649—2017 磁控溅射用钉靶 1范围 本标准规定了磁控溅射用钉靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和 订货单(或合同)内容。 本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶(以下简称钉靶)。 2规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文 件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。 GB/T 1804 一般公差未注公差的线性和角度尺寸的公差 GB/T 5163 烧结金属材料(不包括硬质合金)可渗性烧结金属材料密度、含油率和开孔率的 测定 GB/T 6394 金属平均晶粒度测定方法 GB/T14265 金属材料中氢、氧、氮、碳和硫分析方法通则 GB/T 23275 钉粉化学分析方法铅、铁、镍、铝、铜、银、金、铂、铱、、、硅量的测定、辉光放电 质谱法 YS/T 837 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法 3术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 3.1 磁控溅射 寸physical vapor deposition;PVD 高等离子体密度,并利用电场对惰性气体(通常为Ar气)粒子加速轰击靶表面,从而溅射出材料原子或 原子团,最后沉积形成膜镀层。 3.2 磁控溅射用钉靶 magnetron sputtering ruthenium target 用金属制备的用于磁控溅射的钯材,用于制备钉膜镀层。 4要求 4.1产品分类 4.1.1钉靶按化学成分分为Ru-99.95、Ru-99.99、Ru-99.995、Ru-99.999四个牌号。 4.1.2按靶材焊接方式可分为单体型和焊接型,背板材料包括铝合金、铜及铜合金。 4.1.3钉靶按截面形状可分为圆形、矩形和异形(环形、三角形)等。 1 GB/T346492017 4.2 化学成分 靶的化学成分应符合表1的规定。 表1 钉靶的化学成分 牌号 Ru-99.95 Ru-99.99 Ru-99.995 Ru-99.999 钉含量(质量分数)/%,不小于 99.95 99.99 96666 66666 Ag 2 0.5 Al 10 5 2 Au 一 5 0.5 一 B 2 一 0.5 一 Ca 10 5 2 Co 30 5 3 1 Cr 50 5 3 2 Cu 10 5 2 1 Fe 100 20 5 2 K 50 10 5 0.5 Li 20 10 5 0.5 杂质元素含量(质量 Mg 10 2 0.5 一 分数)/(×10-4)% Mn 10 2 0.5 不大于 eN 50 10 5 0.5 Ni 50 5 3 0.5 P 5 2 一 一 Pb 5 2 0.5 us 2 0.5 Th 0.1 0.01 Ti 5 5 U 0.1 0.01 V 2 1 Zn 2. 1. 一 Zr 10 5 1 c 200 100 100 气体杂质含量(质量 N 100 50 20 一 分数)/(X10-4)% 0 1 000 600 500 不大于 s 100 50 20 一 杂质总含量(质量分数)/(X10-4)% 500 100 50 10 不大于(不包括C、N、S、O) 注1:钉含量为100%减去表中所列杂质总含量的余量(不含C、N.O,S)。 注2:需方对杂质元素有特殊要求的,由供需双方协商。 注3:“一”表示不作要求 2 GB/T34649—2017 4.3外形尺寸 钉靶尺寸、规格及结构方式与用户使用的机台类型有关,一般由需方提供图纸,经供需双方协商确 认。图纸中,未标注的公差按GB/T1804的中等m级执行。 4.4平均晶粒尺寸 靶平均晶粒尺寸在2μm~20μm之间。需方有特殊要求时,由供需双方协定。 4.5块体密度 靶块体密度不小于12.00g/cm,相对密度不小于97%(相对于理论密度12.37g/cm)。需方有 特殊要求时,由供需双方协定。 4.6焊接性能 对于与背板钎焊复合的钉靶,焊合率不小于95%,单个最大伤不超过2%。需方有特殊要求时,由 供需双方协定。单体钉靶无该项要求。 4.7外观质量 钉靶表面应清洁光亮,无指痕、油污和锈蚀,无颗粒附加物和其他沾污,无凹坑、划伤、裂纹、凸起等 缺陷。 5检验方法 5.1化学成分的检验 钉靶中金属杂质元素的分析按照GB/T23275标准的规定执行,钉靶中气体杂质元素的分析按照 GB/T14265标准的规定执行。 5.2 外形尺寸检验 5.2.1钉靶表面粗糙度采用相应精度的粗糙仪检测 5.2.2钉靶外形尺寸及其允许偏差应用相应精度的量具进行检测 5.3平均晶粒尺寸检验 钉靶按照GB/T6394标准的规定进行观察、评定和确认。 5.4块体密度检验 靶块体密度检验按照GB/T5163标准的规定执行。 5.5焊接性能检验 对于与背板针焊复合的钉靶,焊合率检验按YS/T837标准的规定检测 5.6 6外观质量检验 钉靶外观质量用目视检查,如发现异常现象,应在10倍放大镜条件下进行检查确认。 3
GB-T 34649-2017 磁控溅射用钌靶
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